An Investigation of the Effect of Electrodeposition Parameters on Zinc Oxide Electroplated on Indium-Tin Oxide

本計畫中將深入探討電解沈積參數來修正氧化鋅薄膜之特性，如: 穿透率、電阻值、載子濃度、遷移率及顯微結構(表面粗糙度、均勻性、長晶方位等)。而溫度、電流密度、脈衝電鍍、定電位及添加劑都將是本研究中主要探討之電解沈積參數。在氧化鋅鍍層性質分析方面，將採用電化學分析法，如: 循環伏安測試法、石英震盪分析法…等分析不同電解沈積參數對氧化鋅膜的影響及其間之關連性。除此之外，本計畫亦將使用顯微結構分析方法，如: 場射掃瞄式電子顯微鏡、高分辨與分析穿透式電子顯微鏡、X-ray 繞射分析儀及原子力顯微鏡來分析探討氧化鋅膜之表面型貌及顯微結構組織之變化。以不同電沉積參數所得鍍層，配合光學及電性方面的量測結果，期望藉由本研究找出最佳之電解沈解參數，獲得具實用價值之透明導電氧化膜。

Project ID:PB9408-4822
External Project ID:NSC94-2216-E182-002