Project Details
Abstract
原子磊層技術經常用於單晶表面與薄膜生長的製程,對於生成金屬奈米顆粒亦極為有用。無論是平面基材或是孔洞擔體,皆可使用原子磊層技術將金屬前驅物沈積於固體表面,並透過一定的處理程序形成原子層金屬觸媒,基於環保與節省能源的因素,利用原子磊層技術合成高表面積金屬觸媒未來極具潛力。我們預計將製備Cu、Ni、Fe、Cu/Fe與Cu/Ni 觸媒,並應用於一氧化碳氧化反應與天然氣水蒸氣重組製氫反應。本計畫第一年,我們預計自行組裝原子磊層真空系統並製備Cu/SiO2、Ni/SiO2 與Fe/SiO2 三種觸媒,並研究Cu/SiO2 用於一氧化碳氧化之反應活性與反應機構,探討銅金屬在擔體上形成原子層的生成機制。第二年我們將進行觸媒製備過程中原子磊層機制的基礎研究,包括前趨物吸附機構、前趨物熱分解機構、金屬表面分析。並將Ni/SiO2 與 Fe/SiO2 用於天然氣水蒸氣重組製氫反應,探討其反應活性與反應機構。第三年將進行銅觸媒的改質工作,利用Fe 與Ni 作為基材製備銅觸媒以提高銅觸媒的熱穩定性,我們認為Cu/Fe 與Cu/Ni 觸媒可以有效改善銅觸媒燒結問題,同時將應用於天然氣水蒸氣重組製氫反應。
Project IDs
Project ID:PA9308-0845
External Project ID:NSC93-2113-M182-003
External Project ID:NSC93-2113-M182-003
Status | Finished |
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Effective start/end date | 01/08/04 → 31/07/05 |
Fingerprint
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