氮氣分率對RF 磁控濺鍍製備之Al:ZnO 薄膜特性影響之探討

賴 積佑, 呂 若菱, 朱 俊隆, Hsin-Chun Lu

Research output: Contribution to conferenceProceeding

Original languageChinese (Traditional)
StatePublished - 2007
Event96年台灣化學工程年會論文摘要集 - Taiwan
Duration: 23 11 200724 11 2007

Conference

Conference96年台灣化學工程年會論文摘要集
Period23/11/0724/11/07

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