淺談高介電閘極絕緣層與金屬閘極--氟化與氮化技術之開發

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@article{4b860a04367947098f99878dad8da4cc,

title = "淺談高介電閘極絕緣層與金屬閘極--氟化與氮化技術之開發",

keywords = "絕緣層, 金屬閘極, 高介電閘極",

author = "Chao-Sung Lai and 增富呂 and 志耀王 and 士正楊 and 興淦彭 and 恭鳴范 and Tung-Ming Pan and 哲騏王 and 偉成吳 and 惠欣許",

year = "2006",

language = "繁體中文",

volume = "12",

pages = "168--181",

journal = "電子月刊",

issn = "1814-912X",

number = "9",

}

TY - JOUR

T1 - 淺談高介電閘極絕緣層與金屬閘極--氟化與氮化技術之開發

AU - Lai, Chao-Sung

AU - 呂, 增富

AU - 王, 志耀

AU - 楊, 士正

AU - 彭, 興淦

AU - 范, 恭鳴

AU - Pan, Tung-Ming

AU - 王, 哲騏

AU - 吳, 偉成

AU - 許, 惠欣

PY - 2006

Y1 - 2006

KW - 絕緣層

KW - 金屬閘極

KW - 高介電閘極

M3 - 文章

SN - 1814-912X

VL - 12

SP - 168

EP - 181

JO - 電子月刊

JF - 電子月刊

IS - 9

ER -