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長庚大學學術能量集萃 首頁
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應用於DRAM之奈米ALD金屬閘極與高介電絕緣層製程開發(II)
Lai, Chao-Sung
(PI)
Chang, Ruey-Dar
(CoPI)
Liu, Kou-Chen
(CoPI)
電子工程學系(含學碩博士班)
研究計畫
:
國家科學及技術委員會(原科技部)
›
國家科學及技術委員會學術補助
概覽
指紋
指紋
探索此專案觸及的研究主題。這些標籤是根據基礎獎勵/補助款而產生。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering
Atomic Layer Deposition
100%
Dielectrics
100%
Gate Dielectric
33%
Metal Gate
100%
Nanometre
100%
Process Development
33%
Reliability Study
33%
Material Science
Al2O3
66%
Capacitor
66%
Dielectric Material
50%
Dielectric Material
50%
High-K Dielectric
100%
Thermal Stability
33%