二元線模特性的管控圖

  • Wang, Pe-Cheng (PI)

研究計畫: 國家科學及技術委員會(原科技部) 國家科學及技術委員會學術補助

研究計畫-專案詳細資料

摘要

產品或流程的特性值可能是一個二元線性剖面。為了管制這種產品或流程,我們必須不 時的去了解和評估他們的二元線性剖面以確保其品質。很多學者積極投入這方面的研 究,通常這方面的研究是在每一個時間點去收集一組二元迴歸數據,做出一組或一個相 關於截距、斜率、標準差的統計量,來評估流程或產品。有些學者使用參數函數的T2 統計量,有些使用EWMA的T2統計量,Shang, Tsung and Zou (2011)找到一個表現不 錯的EWMA的T2統計量,只是這個新的作法使用的資料包含這個時間點以前的所有資 料,就實用性來看是不可取的。在這個計畫,我們希望找到一個表現比傳統EWMA好且 不需那麼複雜的估算的方法,來管控這方面產品或流程。

Project IDs

系統編號:PA10207-0409
原計畫編號:NSC102-2118-M182-001
狀態已完成
有效的開始/結束日期01/08/1331/07/14

Keywords

  • 數學
  • 管理科學

指紋

探索此研究計畫-專案觸及的研究主題。這些標籤是根據基礎獎勵/補助款而產生。共同形成了獨特的指紋。