研究計畫-專案詳細資料
摘要
利用穆勒─史托克運算來描述光和物質交互作用是最常被使用於分析材料特性的方法。本研究計劃擬提出兩種不同的光學系統架設以分析不同種類的材料之物理性質。其光學理原理係透過儀器架設量測待測樣本的穆勒矩陣元素來分析材料特性。本研究計劃的第一年擬發展一個藉由量測部份穆勒矩陣元素以量測廣義雙折射材料特性的干涉式穿透橢圓儀。而第二年則是發展干涉式穆勒矩陣橢圓儀,它能夠量測一個未知待測樣本的完整的十五個歸一化穆勒矩陣元素。本計劃已提出這兩種光學架設的原理以及理論推導。干涉式穆勒矩陣橢圓儀係結合外差干涉術以及穆勒矩陣橢圓儀。同時,我們發展一個在光的兩個相互正交的電場分量上具有雙頻,等振幅且零相位差的雷射光束做為系統的入射光源,它具有能夠有效減低待測樣本所引起之散射效應所帶來的影響。干涉式穿透橢圓儀以及干涉式穆勒矩陣橢圓儀皆是透過轉動光學元件並量測外差干涉訊號來量測部份或是完整的穆勒矩陣元素。因此可以利用電子窄帶濾波技術來達到高精度量測以低雜訊檢測。
Project IDs
系統編號:PB10011-0102
原計畫編號:NSC100-2218-E182-006
原計畫編號:NSC100-2218-E182-006
狀態 | 已完成 |
---|---|
有效的開始/結束日期 | 01/11/11 → 31/10/12 |
Keywords
- 光電工程
指紋
探索此研究計畫-專案觸及的研究主題。這些標籤是根據基礎獎勵/補助款而產生。共同形成了獨特的指紋。