電子束蒸鍍應用在塑膠基板上鍍製透明導電氧化物薄膜之探討

由於透明導電氧化物(TCO)薄膜極佳之導電特性、高可見光穿透性及高紅外光反射性，是光電裝置中所使用的透明導電電極之最重要材料。為因應未來光電產品朝向輕薄短小，可撓曲、易於攜帶等需求，TCO材料鍍製在軟性基板上已成為未來發展趨勢。目前工業上使用之TCO薄膜材料主要為以濺鍍法製備之氧化銦錫(ITO)，但因其在製程與應用上仍然有瓶頸與問題，所以極需求開發新的替代材料。在已知之TCO薄膜材料中，摻雜鋁之氧化鋅-AZO-及摻雜銦之氧化鋅-IZO-薄膜為極具潛力之ITO薄膜替代材料。在現有的透明導電薄膜製造方法中，濺鍍法因具有可持續性生產高品質薄膜及可塗佈大面積基板等優點，為工業上主要鍍製透明導電薄膜的方法。但因製程溫度對塑膠基板來說仍過高，因此如何改進濺鍍法上述的缺點來配合未來軟性塑膠基板發展的趨勢，是一個值得學術界及工業界探討之研究課題。本計劃擬以一年為期，先以不同材料之氧化物陶瓷靶搭配電子束蒸鍍，於可撓式塑膠基板上鍍製不同材料透明導電氧化物薄膜，並探討不同製程條件對TCO薄膜特性之影響，以改良在這些塑膠基板上之TCO薄膜之性質，以開發出適合在顯示、觸控及太陽能面板上使用之塑膠基板之TCO薄膜材料及其蒸鍍製程。

系統編號:PB9811-0223
原計畫編號:NSC98-2622-E182-068-CC3