研究計畫-專案詳細資料
摘要
本計晝預計分為三年執行。P型氮化鎵於下方之藍光發光二極體(PDLEDs)是先成長P型氮化鎵再 接著成長主動層與N型氮化鎵。因此可以先使用高溫成長高品質和低阻值之P型氮化鎵。本計劃可以 提升P型氮化鎵之品質,此能解決P型氮化鎵之導電率差之問題,進一步電子電洞非對稱之問題。本計晝將分為三大部分:1.針對P-GaN之磊晶調整,成長出高品質與低阻值之P-GaN。針對P-GaN之磊晶調整,成長出 高品質與低阻值之P-GaN。首先,透過磊晶參數的調整,調整成長溫度、氣體之五三比(TMG/NH3) 與載流氣體(H2/N2)之含量比例。2.我們將進一步成長高品質之MQW與N型氮化鎵。首先,透過磊晶參數(溫度、carrygas、NH3、 TEG)的調整,先將高品質之MQW成功成長於P-GaN上。接下來,成長N型氮化鎵於主動層上。由 於N-GaN需要成長在MQW上,成長溫度不能太高,因此調整低溫之成長氮化鎵參數,其N-GaN之 摻雜濃度會隨之改變,接下來進行摻雜濃度的一系列實驗,以期達到品質較好之N-GaN。.3.進行退火之研究與元件製作。於傳統P型氮化鎵於上方(P-sideup)藍光發光二極體不同的是,P 型氮化鎵位於下方,因此退火之參數勢必改變。最後進行元件之製作和實驗分析。此創新之圖形設計與磊晶方式之結合,預計能夠達到LED概念性的突破,以達到高效率發光二 極體全面性的開發,將帶來跨時代的發展。
Project IDs
系統編號:PB10701-0271
原計畫編號:MOST105-2221-E182-034-MY3
原計畫編號:MOST105-2221-E182-034-MY3
狀態 | 已完成 |
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有效的開始/結束日期 | 01/08/18 → 31/07/19 |
Keywords
- 光電工程
指紋
探索此研究計畫-專案觸及的研究主題。這些標籤是根據基礎獎勵/補助款而產生。共同形成了獨特的指紋。