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離子植入缺陷與載子產生之機制探討

研究計畫: 國家科學及技術委員會(原科技部) 國家科學及技術委員會學術補助

研究計畫-專案詳細資料

摘要

目前記憶體內運算已經成為延續摩爾定律重要的方向,需要發展三維積體電路。本計畫將釐清離子植入缺陷於低溫產生載子的機制,協助導入離子植入於低溫三維製程之開發,在學理及實務上皆有所貢獻。

Project IDs

系統編號:PB11107-7827
原計畫編號:MOST111-2221-E182-059
狀態已完成
有效的開始/結束日期01/08/2231/07/23

Keywords

  • 電子電機工程
  • 缺陷
  • 載子
  • 離子植入
  • 霍爾量測