矽摻雜之二氧化鉿與新穎氮化矽界面封蓋層用於鐵電穿隧接面及神經形態應用

研究計畫: 國家科學及技術委員會(原科技部) 國家科學及技術委員會學術補助

研究計畫-專案詳細資料

Project IDs

系統編號:PB11107-7328
原計畫編號:MOST111-2221-E182-063
狀態已完成
有效的開始/結束日期01/08/2231/07/23

Keywords

  • 電子電機工程
  • 矽摻雜二氧化鉿
  • 鐵電性
  • 氮化矽界面封蓋層
  • 正交相
  • 鐵電電容
  • 極化機制
  • 忍耐度
  • 可靠度
  • 鐵電穿隧接面(FTJ)
  • 三維交叉點結構
  • 1S1F
  • 人工突觸
  • 神經型態的
  • 低耗能操作

指紋

探索此研究計畫-專案觸及的研究主題。這些標籤是根據基礎獎勵/補助款而產生。共同形成了獨特的指紋。