一種高反射率發光二極體晶片之製造方法

Liann-Be Chang (Inventor), QING-QUAN XUE (Inventor), GUO-LING JIANG (Inventor)

研究成果: 專利

摘要

本發明係一種高反射率發光二極體晶片之製造方法,其先製作一發光二極體晶片,再將發光二極體晶片覆晶於覆晶基板上;其中發光二極體晶片係堆疊基板、N型氮化鎵半導體層、P型氮化鎵半導體層、發光層、第一電極、第二電極及一反射金屬導電層;該反射金屬導電層由透明導電層、銀及金所堆疊成,其將透明導電層及銀先置於一氧化爐中,並進行退火使透明導電層變成透明的金屬氧化物,而讓光能穿透到銀中反射,然後再於銀上鍍一層金。藉此,反射金屬導電層只有透明導電層及銀需放入氧化爐中,可避免金滲入於銀中,因此可讓銀保持有良好的反射率。
貢獻的翻譯標題Method of manufacturing chip of light emitting diode body with high reflectivity
原文繁體中文
IPCH01L 33/46(2010.01); H01L 33/36(2010.01)
出版狀態已出版 - 16 03 2008

文獻附註

公開公告號: 2.00814381E8
Announcement ID: 2.00814381E8

指紋

深入研究「一種高反射率發光二極體晶片之製造方法」主題。共同形成了獨特的指紋。

引用此