| 貢獻的翻譯標題 | The Study of Anti-Ferroelectricity in Zirconium Dioxide Thin Films with Aluminum Doping and CF4 Plasma Treatment |
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| 原文 | 繁體中文 |
| 監督員/顧問 |
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| 出版狀態 | 已出版 - 2021 |
| 對外發佈 | 是 |
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利用鋁摻雜與四氟化碳電漿處理於二氧化鋯薄膜之反鐵電特性探討
- 林立翔
研究成果: 論文類型 › 碩士論文