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摻雜ⅢA族元素之氧化鎂鋅濺鍍靶材之製備方法

  • Hsin-Chun Lu (Inventor)
  • , JIA-QUAN ZHOU (Inventor)
  • , YU-XIN LUO (Inventor)
  • , ZHEN-SONG ZHANG (Inventor)

研究成果: 專利

摘要

本發明係揭露一種摻雜ⅢA族元素之氧化鎂鋅濺鍍靶材之製備方法,首先提供一含有氧化鎂鋅與ⅢA族元素之氧化鎂鋅混合物。接著對其依序進行研磨、乾燥、造粒、過篩、胚化處理,會得到氧化鎂鋅合成生胚。最後將氧化鎂鋅合成生胚放入高溫爐中,並通入惰性氣體以進行高溫燒結,即得到摻雜ⅢA族元素之氧化鎂鋅濺鍍靶材。本發明製備出的濺鍍靶材,具有高緻密度與低電阻係數,可作為磁控濺鍍使用的靶材,且其於銅銦鎵硒(CuInGaSe2,CIGS)太陽能電池上所形成之上電極及窗層材料,亦具有紅外光之高穿透性,以提高整體太陽光穿透率。
貢獻的翻譯標題Preparation method for magnesium zinc oxide sputtering target blended with group IIIA element
原文繁體中文
專利號I535875
IPCC23C 14/34(2006.01)
出版狀態已出版 - 01 06 2016

文獻附註

公開公告號: I535875
Announcement ID: I535875

指紋

深入研究「摻雜ⅢA族元素之氧化鎂鋅濺鍍靶材之製備方法」主題。共同形成了獨特的指紋。

引用此