摘要
本發明係揭露一種摻雜ⅢA族元素之氧化鎂鋅濺鍍靶材之製備方法,首先提供一含有氧化鎂鋅與ⅢA族元素之氧化鎂鋅混合物。接著對其依序進行研磨、乾燥、造粒、過篩、胚化處理,會得到氧化鎂鋅合成生胚。最後將氧化鎂鋅合成生胚放入高溫爐中,並通入惰性氣體以進行高溫燒結,即得到摻雜ⅢA族元素之氧化鎂鋅濺鍍靶材。本發明製備出的濺鍍靶材,具有高緻密度與低電阻係數,可作為磁控濺鍍使用的靶材,且其於銅銦鎵硒(CuInGaSe2,CIGS)太陽能電池上所形成之上電極及窗層材料,亦具有紅外光之高穿透性,以提高整體太陽光穿透率。
| 貢獻的翻譯標題 | Preparation method for magnesium zinc oxide sputtering target blended with group IIIA element |
|---|---|
| 原文 | 繁體中文 |
| 專利號 | I535875 |
| IPC | C23C 14/34(2006.01) |
| 出版狀態 | 已出版 - 01 06 2016 |
文獻附註
公開公告號: I535875Announcement ID: I535875
指紋
深入研究「摻雜ⅢA族元素之氧化鎂鋅濺鍍靶材之製備方法」主題。共同形成了獨特的指紋。引用此
- APA
- Author
- BIBTEX
- Harvard
- Standard
- RIS
- Vancouver