染料吸附系統

Chia-Chang Lin (Inventor), Hsiu-Po Kuo (Inventor), CHUN-TE WU (Inventor)

研究成果: 專利

摘要

一種染料吸附系統包含繞軸線轉動的高速旋轉裝置,及環圍該高速旋轉裝置設置、且供固設工作電極半成品的基材裝載裝置,高速旋轉裝置包括供染料溶液沿軸向注入的染料容槽,及圍繞染料容槽外側設置的液體破碎單元,液體破碎單元具有多數規則或不規則排列且不成直線連通的空隙,當高速旋轉裝置轉動時,染料容槽中的染料溶液沿徑向離開染料容槽並在通過液體破碎單元後成為直徑更小並繼續行進的液滴,噴擊設置於基材裝載裝置的工作電極半成品使其吸附且吸附效率快,而能製作得到染料敏化太陽能電池的工作電極。
貢獻的翻譯標題Dye absorption system
原文繁體中文
專利號I444234
IPCB05D 1/02(2006.01); B05D 5/12(2006.01); H01L 31/0224(2006.01); H01L 31/18(2006.01)
出版狀態已出版 - 11 07 2014

文獻附註

公開公告號: I444234
Announcement ID: I444234

指紋

深入研究「染料吸附系統」主題。共同形成了獨特的指紋。

引用此