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氮化鎵乾式蝕刻技術(ICP-RIE)之研究

  • Liann-Be Chang
  • , 劉 書史

研究成果: 期刊稿件 › 文章 › 同行評審

原文繁體中文
頁(從 - 到)136-142
期刊材料科學與工程
卷33
發行號3
出版狀態已出版 - 2001

Keywords

  • 乾式蝕刻
  • 感應耦合電漿
  • 氮化鎵

引用此