摘要
一種氮化鎵系發光二極體結構及其製作方法,係包括一基板;至少一氮化鎵系層,其係位於該基板之上方;於該氮化鎵系層之上方,依序形成一n型氮化鎵系超晶格結構與n型氮化鎵系層所組成之介面隔離結構及一氮化鎵系發光層;一p型氮化鎵系層,其係形成於該氮化鎵系發光層之上方。本發明係藉由降低溫度及調整磊晶反應腔環境,於純氮氣且低溫下,磊晶成長該介面隔離結構及該發光層,進而達到提升輻射復合之效率。
| 貢獻的翻譯標題 | Structure of gallium nitride series light-emitting diode (LED) and manufacturing method thereof |
|---|---|
| 原文 | 繁體中文 |
| IPC | H01L 33/00(2006.01) |
| 出版狀態 | 已出版 - 16 02 2010 |
文獻附註
公開公告號: 2.01007999E8Announcement ID: 2.01007999E8
指紋
深入研究「氮化鎵系發光二極體結構及其製作方法」主題。共同形成了獨特的指紋。引用此
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