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長庚大學學術能量集萃 首頁
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學者概覽
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設備
硫化處理應變式砷化鋁銦/砷化鎵銦異質接面場效應電晶體(MHEMT)之方法
Hsien-Chin Chiu
(Inventor)
, Liann-Be Chang (Inventor)
, ZHONG-WEN CHEN (Inventor)
, YUAN-CHANG HUANG (Inventor)
, WEI-XIAN LIN (Inventor)
電子工程學系(含學碩博士班)
光電工程研究所(碩士班)
研究成果
:
專利
總覽
指紋
指紋
深入研究「硫化處理應變式砷化鋁銦/砷化鎵銦異質接面場效應電晶體(MHEMT)之方法」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering
Transistor
100%
Indium Gallium Arsenide
100%
Applications
33%
Density
33%
Surfaces
33%
Electric Potential
33%
Surface State
33%
High Current Density
33%
Input Power
33%
Inactivation
33%
Earth and Planetary Sciences
High Electron Mobility Transistors
100%
Vulcanisation
100%
Utilization
33%
Current Density
33%
State
33%
Input
33%
High Current
33%
Threshold Voltage
33%
Deactivation
33%
Invention
33%