| 貢獻的翻譯標題 | Effects of fabrication conditions on the characteristics of sputter-deposited amorphous indium gallium zinc oxide thin film resistive random access memory devices |
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| 原文 | 繁體中文 |
| 監督員/顧問 |
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| 出版狀態 | 已出版 - 2022 |
| 對外發佈 | 是 |
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