| 貢獻的翻譯標題 | Interface properties of ultra-thin HfO2 gate dielectrics on Tensile strained-SiC/Si heterostructure |
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| 原文 | 繁體中文 |
| 監督員/顧問 |
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| 出版狀態 | 已出版 - 2004 |
| 對外發佈 | 是 |
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超薄二氧化鉿高介電材料成長於應變碳化矽／矽之雙異質結構之界面研究
- 劉昀昇
研究成果: 論文類型 › 碩士論文