| 貢獻的翻譯標題 | 射頻濺鍍與電子束蒸鍍兩種方法沉積三氧化二鐠之閘介電層電性比較 |
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| 原文 | 美式英語 |
| 監督員/顧問 |
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| 出版狀態 | 已出版 - 2006 |
| 對外發佈 | 是 |
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Comparison of electrical characteristics of praseodymium oxide gate dielectrics for rf-sputtering and e-beam methods
- 蔡豐磯
研究成果: 論文類型 › 碩士論文