Diffusion of boron near projected ranges of B and BF2 ions implanted in silicon

Ruey Dar Chang*, Chih Hung Lin, Li Wei Ho

*此作品的通信作者

研究成果: 期刊稿件 › 文章 › 同行評審

3 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Diffusion of boron near projected ranges of B and BF2 ions implanted in silicon」主題。共同形成了獨特的指紋。

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