跳至主導覽 跳至搜尋 跳過主要內容

Effects of fabrication conditions on the characteristics of sputter-deposited amorphous indium gallium zinc oxide thin film resistive random access memory devices

研究成果: 會議稿件的類型會議論文

原文美式英語
出版狀態已出版 - 2024
事件IUMRS-ICEM 2024 - Hong Kong, China
持續時間: 16 05 202420 05 2024

Conference

ConferenceIUMRS-ICEM 2024
期間16/05/2420/05/24

引用此