Effects of nitrogen content on the structure and electrical properties of high-k NdOxNy gate dielectrics

  • Tung Ming Pan*
  • , Sung Ju Hou
  • , Chih Hwa Wang
    • *此作品的通信作者

研究成果: 期刊稿件 › 文章 › 同行評審

13 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Effects of nitrogen content on the structure and electrical properties of high-k NdOxNy gate dielectrics」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式

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