HfOx thin films for resistive memory device by use of atomic layer deposition
Pang Shiu Chen*, Heng Yuan Lee, Ching Chiun Wang, Ming Jinn Tsai, Kou Chen Liu
*此作品的通信作者
研究成果: 圖書/報告稿件的類型 › 會議稿件 › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）