Influence of postdeposition annealing on physical and electrical properties of high-k Yb2TiO5 gate dielectrics
Tung Ming Pan*, Li Chen Yen, Chien Hung Chiang, Tien Sheng Chao
*此作品的通信作者
研究成果: 圖書/報告稿件的類型 › 會議稿件 › 同行評審
Tung Ming Pan*, Li Chen Yen, Chien Hung Chiang, Tien Sheng Chao
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