Influence of postdeposition annealing on physical and electrical properties of high-k Yb2TiO5 gate dielectrics

  • Tung Ming Pan*
  • , Li Chen Yen
  • , Chien Hung Chiang
  • , Tien Sheng Chao
    • *此作品的通信作者

研究成果: 圖書/報告稿件的類型 › 會議稿件 › 同行評審

指紋

深入研究「Influence of postdeposition annealing on physical and electrical properties of high-k Yb2TiO5 gate dielectrics」主題。共同形成了獨特的指紋。

Biochemistry, Genetics and Molecular Biology

Material Science