Ta 2O 2 polycrystalline silicon capacitors with CF 4 plasma treatment

Chyuan Haur Kao*, Hsiang Chen

*此作品的通信作者

研究成果: 期刊稿件文章同行評審

3 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Ta 2O 2 polycrystalline silicon capacitors with CF 4 plasma treatment」主題。共同形成了獨特的指紋。

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