The impact of Hf metal pre-deposition on the physical and electrical properties of ultrathin HfO2 films on Si0.9954C 0.0046/Si heterolayers

K. C. Liu*, S. Maikap, C. H. Wu, Y. S. Chang, P. S. Chen

*此作品的通信作者

研究成果: 期刊稿件 › 文章 › 同行評審

1 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「The impact of Hf metal pre-deposition on the physical and electrical properties of ultrathin HfO2 films on Si0.9954C 0.0046/Si heterolayers」主題。共同形成了獨特的指紋。

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