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The suppression of boron diffusion of MOSFET by using carbon or/and Fluorine implantation

貢獻的翻譯標題: 利用碳或/與氟離子植入抑制之NMOSFET硼擴散效應
  • 李世傑

研究成果: 論文類型碩士論文

貢獻的翻譯標題利用碳或/與氟離子植入抑制之NMOSFET硼擴散效應
原文美式英語
監督員/顧問
  • Pan, Tung-Ming, 指導教授
出版狀態已出版 - 2007
對外發佈

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